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Materialverdichtung
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Heiß-Isostatisches Pressen für PVD-Sputter-Targets

Hot Isostatic Pressing for PVD Sputtering Targets

Die Technologie der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und des Sputterns ist ein echter Wegbereiter für viele Produkte und Anwendungen des täglichen Lebens, da sie in der Lage ist, funktionelle dünne Schichten im Nano- und Mikrometermaßstab auf den meisten festen Materialien mit geringer Umweltbelastung herzustellen.

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