HPHT 利用 HIP 压力介质在 HIP 容器内部低温表面上方的对流作用。由于 Quintus 设备的设计，通过冷却可以产生这些低温表面。气体的流动可以控制和引导，可让您以特定速率掌控冷却。Quintus URC® 和 URQ® 技术是实现这点的关键。
HPHT 利用 HIP 压力介质在 HIP 容器内部低温表面上方的对流作用。由于 Quintus 设备的设计，通过冷却可以产生这些低温表面。气体的流动可以控制和引导，可让您以特定速率掌控冷却。Quintus URC® 和 URQ® 技术是实现这点的关键。
