クインタスがPVD薄膜性能の向上に貢献する
物理蒸着(PVD)およびスパッタリング法は、環境への影響を低く抑えながら、ほとんどの固体材料に機能性薄膜を形成できることから、日常生活で遭遇する多くの製品や応用をまさに実現可能にする技術です。
この技術は常に新しい応用分野が開拓され、現在の応用分野とともに成長しており、合計CAGR(年平均成長率)は約5％(2021-2030年)と予測されています。
Hot Isostatic Pressing (HIP) is and can be used in the production of high-quality sputtering targets from most material systems:
✓ targets produced directly from a powder metal, ceramic, intermetal or compound.
✓ improving properties of cast, sintered or sprayed targets.
✓ target to backplate diffusion bonding.
熱間静水圧プレス(HIP)とクインタスの最先端HIP/HPHT装置が提供する独自のプロセス制御により、ターゲット製造と薄膜形成の高い品質と生産性を確保します。
ウェビナー - 最適なPVDスパッタリングターゲットを実現する熱間静水圧プレス
ターゲット製造とその特性向上のためのクインタス独自のHPHT™ 技術を紹介します。最適化されたトラブルフリーのスパッタリングプロセスと薄膜性能が実現します。
HIP技術の紹介
クインタス・テクノロジーズの3回にわたるウェビナーシリーズでは、ヨハン・ヒャルネ博士とマグナス・アルフォルスが熱間静水圧プレス(HIP)の最新の使用について詳しく紹介します。
PVDスパッタリングターゲットの熱間静水圧プレス
この独占ホワイトペーパーではPVDとスパッタリング技術について詳しく説明されています。これらの技術が工業製品と消費者製品に可能性について紹介しています。
